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第36章 28纳米碳基芯片（第2页）

“惯性约束！

能很稳定的把碳的活性降低！

我已经制作出8英寸的石墨烯晶圆，正准备尝试一下光刻和刻蚀！”

欧武兴奋的说道。

把晶圆制造出来是芯片制造的第一步，第一步已经成功了。

接下来就看材料在光刻和刻蚀之后的表现了。

如果光刻和刻蚀表现好的话，那就要进行封装测试。

接下来的试产叶昊一路紧盯着，因为有28纳米的光刻机，所以直接制造28纳米的芯片。

28纳米芯片属于成熟工艺的范畴了，国内的华芯国际已经能制造出１４纳米的芯片了。

不过华芯国际使用的并不是国产的光刻机，还是会受限制于漂亮国的技术。

现在极星芯片组的所有设备都是国产的，国产率１００％，绝对不会出现被制裁的现象。

不过由于国产光刻机的限制，只能制造出28纳米的芯片。

其实28纳米的光刻机能利用多次曝光技术制造出14纳米的芯片，但良品率太低，不划算。

28纳米的碳基芯片的性能就能够跟7纳米的硅基芯片性能相媲美，所以28纳米的光刻机是够用的。

毕竟现在主流高端手机用上的也就是７纳米的芯片，花瓣通信也是因为７纳米芯片受限制，才会遭受到漂亮国的制裁。

8寸的石墨烯晶圆制造出来之后，涂上光刻胶，然后进行光刻和刻蚀施工，之后清洗掉光刻胶。

这样的步骤要循环几十次，一般有五百多道工序。

以前大家研究的碳基芯片也有小量成功的，但是都是只有几百万晶体管的集成度。

相比现在动辄几十亿上百亿的集体管，以前研究的碳基芯片显然是不够的。

此次叶昊使用的石墨烯材料又解决了碳活性的问题，28纳米芯片晶体管的集成在五十二亿左右。